随着宽禁半导体材料的发展,砷化镓作为一种新型的半导体材料备受关注。由于其电子迁移率比硅大5~6倍,故在制作微波器件和高速数字电路方面得到重要应用,用砷化镓制成的半导体器件具有高频、高温、低温性能好、噪声小、抗辐射能力强等优点。砷化镓是直接能隙的材料,所以可以用来发光,而Si是间接能隙的材料,只能发射...
05月25日
随着宽禁半导体材料的发展,砷化镓作为一种新型的半导体材料备受关注。由于其电子迁移率比硅大5~6倍,故在制作微波器件和高速数字电路方面得到重要应用,用砷化镓制成的半导体器件具有高频、高温、低温性能好、噪声小、抗辐射能力强等优点。砷化镓是直接能隙的材料,所以可以用来发光,而Si是间接能隙的材料,只能发射...