突破90nm光刻机，可量产14nm芯片？外媒：我国半导体“大势已定”
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导读：突破90nm光刻机，可量产14nm芯片？外媒：我国半导体“大势已定”
在半导体芯片领域里，美国一直拥有着很高的话语权，在我国华为等科技企业被老美卡脖子发展以后，就让我们认识到了发展国产芯片产业链的重要性，所以这几年，我国也一直在用举国之力去打造属于我们自己的国产芯片产业链，为了尽快在芯片领域进行突破，我国半导体各司其职，不少企业都开始在不同的领域进行发力！
基本形成***0亿元的集成电路规模
实际上，我国在半导体芯片领域并非是一片空白；国内的华为海思、上海微电子、以及中芯国际等企业都在芯片的研发设计和生产等领域进行了布局，而在上海，我们还打造了“东方芯港”，在这里不仅**了大量的半导体芯片企业，而且还拥有着国内最**的芯片人才，如今上海已经基本形成了***0亿元的集成电路规模。
外媒：我国半导体“大势已定”
作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：我国半导体的发展也早已经“大势已定”！
突破90nm光刻机，可量产14nm芯片
如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！
目前来看，现在我国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构R**C-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构。
随着全球芯片市场出现短缺以后，国产芯片产业链就迎来了大爆发，而我国作为全球第一大的芯片消费市场，每年都要从国外进口超万亿规模的芯片，只要有国内市场加快发展，并努力实现自给自足，那么有这万亿级大市场的支持，我们何愁我国半导体发展不起来呢？不知道对此你是怎么看的呢？
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