国产光刻胶上演“**两重天”
今年以来，国产光刻胶一直是业界关注的焦点，资本青睐、光刻胶厂商也不断加码布局，而关于光刻胶的讨论与争议从未停歇。
投资布局火热
作为备受关注的“卡脖子”半导体材料，光刻胶已成为资本市场上的香饽饽，近期大基金二期和华为的投资布局更是让光刻胶热度加剧。
8月10日，徐州博康**信息发生变更，注册资本从7600.95万元增至8445.50万元，增幅11.11%，新增深圳哈勃科技投资合伙企业（有限合伙）为股东，后者为华为旗下投资平台。
△Source：天眼查截图
徐州博康成立于2010年3月，是一家光刻胶厂商。官网资料显示，徐州博康实现了从单体、光刻胶专用树脂、光酸剂及最终产品光刻胶的国产化自主可控的供应链，产品线涵盖193nm/248nm光刻胶单体、193nm/248nm光刻胶、g线/i线光刻胶、电子束光刻胶等。
在这之前不久，大基金二期亦出手投资光刻胶。
7月27日，南大光电公告披露称，为加快光刻胶事业发展，控股子公司宁波南大光电拟通过增资扩股方式，引入战略投资者大基金二期。大基金二期将以合计1.83亿元的**认购宁波南大光电的新增注册资本6733.19万元。
与此同时，晶瑞电材（曾用名“晶瑞股份”）、彤程新材等光刻胶厂商也正在不断加码布局。
8月11日，晶瑞电材发布公告称，向不特定对象发行可转换公司债券已经创业板上市委审议通过，并已经我国***同意注册。此次拟募集资金不超过5.23亿元，集成电路制造用高端光刻胶研发项目为募投项目之一。
△Source：晶瑞电材公告截图
该项目旨在通过自主研发，打通ArF光刻胶用树脂的工艺合成路线，完成ArF光刻胶用树脂的中试示范线建设，满足自身ArF光刻胶的性能要求。实现批量生产ArF Immersion光刻胶的成套技术体系并完成产品定型，技术指标和工艺性能满足90～28nm集成电路技术和生产工艺要求。
为保障该项目关键设备的技术先进性和设备如期到位，晶瑞电材通过Singtest Technology PTE. LTD.进口ASML光刻机设备、购置ArF光刻机配套设备、建设研发大楼。
此外，晶瑞电材8月1日宣布，曾在知名光刻胶企业任职近10年的陈韦帆加入公司光刻胶事业部担任总经理职务。
彤程新材方面，其通过进一步收购股权实现对光刻胶厂商北京科华的控股，目前直接持有北京科华56.56%股权，并与Meng Technology Inc.合计持有北京科华70.53%股权，今年3月开始已经对北京科华实现并表。
8月16日，彤程新材公告披露称，将通过公司全资子公司上海彤程电子材料有限公司在上海化学工业区内投资建设“ArF高端光刻胶研发平台建设项目”。
项目总投资为6.99亿元，主要研究ArF湿法光刻胶工业化生产技术开发，通过建立标准化的生产及控制流程，提升高端光刻胶的质量控制水平，实现193nm湿法光刻胶量产生产；同时，逐步建立先进的集成电路及配套材料开发与应用评价平台。
厂商最新进展
资本追捧、厂商大力布局，那么，目前国产光刻胶发展进程到底如何？我们看看各厂商新近披露的***息。
晶瑞电材方面，其光刻胶产品由子公司苏州瑞红生产。8月1日，晶瑞电材在投资者互动平台上表示，g/i线光刻胶已向中芯国际、合肥长鑫等知名大尺寸半导体厂商供货，KrF光刻胶完成中试，目前已进入客户测试阶段，测试通过后即可进入量产阶段。ArF高端光刻胶研发工作已正式启动，旨在研发满足90-28nm芯片制程的ArF光刻胶。
△Source：互动平台截图
南大光电方面，7月29日其发布公告称，公司作为牵头单位，承担的国家科技重大专项（02 专项）“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之“先进光刻胶产品开发与产业化”项目通过专家组验收。宁波南大光电已建成年产25吨ArF（干式和浸没式）光刻胶产业化基地，具备进一步扩大生产的能力。不过公告亦提示称，目前ArF光刻胶产品尚未实现规模化量产。
而据南大光电7月27日公告信息，宁波南大光电研发的ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的客户认证，相关主要芯片制造企业的认证工作正在顺利推进，为ArF光刻胶的规模化量产奠定坚实基础。
△Source：全球半导体观察，根据***息整理
上海新阳方面，据其6月30日公告，其自主研发的KrF（248nm）厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证，并成功取得第一笔订单。8月16日，上海新阳在投资者互动平台上表示，公司ArF干法光刻胶尚在认证当中。
彤程新材方面，根据彤程新材8月16日披露的半年报，北京科华半导体光刻胶业务实现营业收入5647.83万元，同比增长46.74%；半导体用g/i线光刻胶产品同比增长40.36%；KrF光刻胶产品同比增长94.51%，上半年新增包括KrF光刻胶、高档i线光刻胶、化学放大型i线光刻胶在内的10支产品获得长江存储、中芯北方、广州粤芯、厦门士兰集科等用户订单。
彤程新材表示，2021年下半年，公司将继续推进KrF光刻胶及高分辨I线光刻胶的客户开发，积极布局14nm及以上工艺节点用KrF光刻胶产品，而上文也提及，彤程新材正拟投建的“ArF高端光刻胶研发平台建设项目”。
而徐州博康方面，其官网介绍称公司产目前已成功开发出40+个中高端光刻胶产品系列，包括多种电子束胶、ArF干法光刻胶、KrF正负型光刻胶、i线正负型光刻胶及GHI超厚负胶等，但未披露具体量产情况。
产线应用遇冷？
综合前文来看，目前国内主流光刻胶企业已取得一定进展，可实现量产g线/i线/KrF光刻胶，而ArF光刻胶仍主要处于认证或研发阶段。然而，全球光刻胶技术逐步由g/i线向EUV发展的技术迭代路线清晰且国外企业已有ArF产品研发完成并量产。
彤程新材在半年报中指出，从我国**半导体光刻胶产品结构来看，2020年，ArF光刻胶占比40%；KrF光刻胶占比39%；g/i线光刻胶占比20%。可见，KrF和ArF光刻胶需求量快速增长，而目前高分辨率的KrF和ArF光刻胶产品基本出自日本和美国公司。
而前不久在某个“半导体行业交流”群里，一位证券分析师与国内知名晶圆代工厂商一位技术人员的一场讨论，似乎引发了更多人对于国产光刻胶“火热”背后的“冷思考”。
上文提到，ArF光刻胶在国内仍主要处于认证或研发阶段，正如南大光电在公告中所指出的，“ArF光刻胶的复杂性决定了其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险，不仅需要技术攻关，还需要在应用中进行工艺的改进、完善，这些都会决定ArF光刻胶的量产规模和经济效益。”
事实上，国产光刻胶厂商能攻下KrF、ArF已实属不易，因为面对海外技术**，光刻胶国产化之路走得非常艰难，全球半导体观察此前的报道《光刻胶国产化的6道坎》一文中有详细阐述，光刻胶国产化面临着纯度、原材料、专利、规模等6道坎，其中提到验证和规模量产方面的困难。
对于国产光刻胶而言，其国产化之路漫漫、任重而道远，在这过程中免不了面临各种争议、甚至各种“炒作”，正所谓事实胜于雄辩，企业唯有沉下心来攻克技术难关，才能迎来更多的机会。
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